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掩膜版涂布厚光刻胶层有气泡

发布者: zipperzinc | 发布时间: 2015-7-28 08:49| 查看数: 1985| 评论数: 0|帖子模式

光掩膜版旋转涂布厚光刻胶层,涂胶转速大约为2000rpm,光刻胶为AZ4562,胶层厚度10um。在旋转涂布前,光刻胶有用匹配的稀释剂进行稀释。前烘后胶面情况正常,但是用显微镜观察有大量气泡,如下图所示,请问这是怎么回事?
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