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爱德万字符投影电子束曝光系统F7000

发布者: miriam | 发布时间: 2015-8-5 17:45| 查看数: 1463| 评论数: 0|帖子模式



F7000字符投影电子束曝光系统

                           F7000字符投影电子束曝光系统


爱德万F7000采用的字符投影技术(Character Projection Technology),较传统电子束曝光设备,速度大幅提高,适用于14nm以下工艺的小批量先进集成电路, MEMS,纳米光学等器件的开发和生产。

作为高精度曝光系统,F7000具备

高分辨率:高达10纳米级分辨率,
自由灵活:支持最大晶圆尺寸:12寸 ;及多种材料尺寸;
                支持掩膜尺寸:6寸~3寸;
高生产量:独特字符投影(CP)技术结合可变形束(VSB)技术,快速!
稳定运行:现场清洁技术和自清洁技术,95%以上正常运行时间!


12纳米线宽图形

12纳米线宽图形


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