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半导体抛光耗材、抛光液、抛光垫、阻尼布

发布者: wx_H0BUUK7C | 发布时间: 2019-10-12 11:09| 查看数: 1279| 评论数: 0|帖子模式


        东莞市创力研磨科技有限公司是一家专业生产:纳米级抛光液、金刚石研磨液、阻尼布、抛光垫、超精密研磨抛光耗材开发及生产经营科技型企业,拥有雄厚的专业技术力量,精湛的生产工艺和先进的加工设备,拥有国际上最先进的现代化检测仪器设备以及优质的服务得到了美国、日本、韩国、东南亚及国内高端客户的信赖。
       产品广泛应用于蓝宝石衬底、LED芯片、半导体、精密元器件、陶瓷、硬质合金、金属研磨抛光表面加工领域。

      公司团队通过严格的ISO9001 /ISO14001和OHSAS18000管理体系为基础,构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力,致力于通过向客户提供微米、纳米材料及其应用工艺方案,协助客户提高产品性能和科技含量,进而提高产品附加值并增强市场竞争力,使客户在其相关行业内长期保持创新优势,为客户创造了良好的经济效益。
        公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神,将及时、有效地为客户提供优质的服务。

抛光垫粗抛

抛光垫粗抛

阻尼布精抛

阻尼布精抛

纳米级抛光液

纳米级抛光液

半导体专用抛光液:
                   主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别适合用于砷化镓、锗片、磷化铟、氮化镓、碳化硅、单晶硅、多晶硅、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外玻璃珠中抛或精抛。


半导体专用抛光垫CL-600(合成纤维聚合物抛光垫)

产品详情:

外   观:白 色    形   状:圆 形    厚   度:T1.3mm   硬   度:78±2   Shore-A    刻   槽:方槽18*18mm   槽   深:0.8±0.2mm   槽   宽:1.8±0.02mm密   度:0.47±0.03g/mm³

内粘结力:2800(gf/20mm) 外粘结力:2600(gf/20mm)背   胶:PT双面胶/进口3M胶

常用规格

Φ380、Φ460、Φ610、Φ640、Φ710、Φ820、

Φ920、Φ980、Φ1100、Φ1280mm、Φ1340

*完美替代SUBA600抛光垫*

应用领域:

1、蓝宝石加工:蓝宝石衬底、LED芯片、窗口片、表镜片、手机指纹识别片、手机摄像头镜片等蓝宝石材料粗抛或精抛;

2、金属加工:不锈钢、铝件、铜件、模具钢、手机Logo、手机中框、手机卡槽、手机按键、手机背板、医疗器械件、模具等超硬合金金属材料粗抛或精抛;

3、陶瓷加工:氮化铝基板、手机陶瓷盖板、陶瓷指纹件、手表陶瓷结构件、等陶瓷材料粗抛或精抛;

4、半导体加工:硅片、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓等半导体材料粗抛或精抛;

5、红外晶体加工:硒化锌、锗、硅、硫化锌、氟化钙、氟化镁、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外等红外材料粗抛或精抛;

6、光学玻璃加工:蓝玻璃滤光片、反射镜片、手机玻璃、石英晶片、水晶晶片、钟表镜片、精密光学仪器、军用电子透光仪等粗抛或精抛
                                                                                                                8a79d2bf12f50ed080df304161c1125.jpg



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